我国还要自研EUV光刻机吗 筑牢产业根基[热点]

近期，华为提出的韬定律在全网引起广泛关注。半导体物理界权威褚君浩院士在接受采访时指出，摩尔定律已触及发展天花板，而韬定律为全球半导体产业提供了全新的发展方向。

在韬定律的指导下，华为通过逻辑折叠技术，在一代产品中实现了过去需要三年迭代才能达到的性能提升。根据公开数据，华为仅用一年时间就将晶体管密度提升了53.5%，芯片特征尺寸对应的平面面积缩小了12.7%。芯片主频可以达到4GHz到5GHz，运算延迟低至零点几纳秒，显示出极高的性能水平。

尽管如此，韬定律是否能成为行业公认的通用准则，还需长时间的产业实践和验证。目前相关落地数据尚不充分，未来随着更多企业跟进并积累实测数据，才能最终提炼出适配新路径的产业发展规律。

关于中国是否应继续投入资源发展EUV光刻机的问题，褚君浩表示，掌握自研EUV技术是为中国半导体产业打下坚实基础的重要一步。结合韬定律的新路径，两者将产生显著的叠加效应，不仅是一次技术跃迁，更是一次底层范式创新，可能重新定义全球半导体产业的发展方向。

当前，国内半导体产业的整体结构已经相当完整，核心环节对外依存度逐渐降低，上下游本土产业链的协同联动也已形成良好基础。未来，随着科学技术的快速进步，全球半导体产业的最优形态将是各国各企业发挥自身技术优势，共同推进整个行业向前发展。